У лабораторії з підвищеним рівнем безпеки в Шеньчжені китайські науковці створили прототип установки, яка в перспективі має дозволити виготовляти найсучасніші напівпровідникові чипи — ті самі, що лежать в основі роботи систем штучного інтелекту, смартфонів і сучасних озброєнь, повідомляє Reuters.
За даними агентства, прототип завершили на початку 2025 року, і нині він проходить випробування. Установка настільки габаритна, що займає майже весь цех. Над нею працювала команда колишніх інженерів нідерландської ASML, які відтворювали ключові рішення через реверс-інжиніринг EUV-літографічних машин компанії.
EUV-літографія вважається одним із головних вузлів технологічного протистояння: вона використовує пучки екстремального ультрафіолетового світла для «гравіювання» надтонких схем на кремнієвих пластинах. Чим менші елементи схеми, тим потужнішим може бути чип. Reuters зазначає, що китайська машина вже здатна генерувати EUV-світло, однак поки що не продемонструвала виготовлення повноцінних робочих чипів.
На тлі цих робіт Reuters нагадує заяву генерального директора ASML Крістофа Фуке, який раніше казав, що Китаю знадобиться «багато-багато років», аби розробити таку технологію. Водночас сама поява працездатного прототипа може свідчити, що країна наблизилася до технологічної автономії швидше, ніж припускали частина аналітиків.
За інформацією Reuters, суттєву роль зіграла доступність окремих компонентів зі старіших машин ASML на вторинних ринках. Урядова мета — отримати робочі чипи на цій платформі до 2028 року, хоча джерела, близькі до проєкту, називають реалістичнішим горизонтом 2030-й.
Проєкт став кульмінацією багаторічної ініціативи з «самодостатності» в напівпровідниках, що належить до пріоритетів керівництва КНР, і, за словами співрозмовників агентства, тривалий час розвивався в режимі секретності. Також повідомляється, що важливу координаційну роль у широкій мережі компаній та інститутів виконує Huawei. Reuters
